As últimas notícias sobre máquinas de litografia UV de super-resolução (comparação entre máquinas de litografia UV e ASML holandesa)

meu país fez novos avanços no campo da fabricação de chips!

Depois de quase sete anos de trabalho árduo, o projeto "Desenvolvimento de equipamento de litografia de super-resolução" passou na inspeção de aceitação. Isto significa que a China tem agora “o primeiro equipamento de litografia ultravioleta (ou seja, 22nm@365nm) de super-resolução do mundo com a mais alta resolução”.

Em outras palavras, os cientistas chineses desenvolveram com sucesso uma máquina de fotolitografia muito poderosa.

A máquina de litografia é o equipamento principal da fabricação de chips. Nosso país sempre foi controlado por outros na indústria de chips, especialmente na área de máquinas de litografia, e muitas vezes enfrenta várias restrições, como estrangulamentos estrangeiros e proibições de vendas.

Para esta inovação, a opinião do grupo de especialistas em aceitação é:

Sob o comprimento de onda da fonte de luz de 365 nm, a resolução de largura de linha mais alta desta máquina de litografia em uma única exposição atinge 22 nm.

O projeto rompe o limite de difração de resolução em princípio, estabelece uma nova rota de pesquisa e desenvolvimento para equipamentos de nanolitografia de grande área e alta resolução e contorna barreiras relevantes de propriedade intelectual estrangeira.

Assim que a notícia foi divulgada, muitas pessoas a elogiaram , mas a maioria das pessoas A maioria deles é ignorante e, claro, algumas pessoas dizem que estão se gabando. O que esta notícia significa?

Há muitos destaques dessa descoberta, entre os quais há vários pontos que merecem mais atenção. Os qubits são brevemente resumidos da seguinte forma:

Fonte de luz: fina linhas esculpidas com uma faca grossa< /p>

Esta máquina de litografia doméstica usa uma fonte de luz de comprimento de onda de 365 nanômetros, que pertence à faixa quase ultravioleta.

Normalmente, para buscar processos nanométricos menores, a solução para os fabricantes de máquinas de litografia é usar fontes de luz com comprimentos de onda cada vez mais curtos. ASML é essa ideia.

A fonte de luz da máquina de litografia mais usada em países estrangeiros é o laser ultravioleta profundo de comprimento de onda de 193 nanômetros. A resolução da litografia é de apenas 38 nanômetros, o que é cerca de 0,27 vezes o comprimento de onda da exposição.

Esta máquina de litografia doméstica pode atingir 22 nanômetros. Além disso, “quando combinado com a tecnologia de dupla exposição, também poderá ser usado para fabricar chips de 10 nanômetros no futuro”.

Em outras palavras, esta máquina de litografia desenvolvida pelo Instituto de Optoeletrônica da Academia Chinesa de Ciências usa um comprimento de onda mais longo (próximo ao ultravioleta) e uma fonte de luz de menor custo (lâmpada de mercúrio) para obter maior resolução de litografia. ( 0,06 vezes o comprimento de onda da exposição).

Hu Song, vice-designer-chefe do projeto e pesquisador do Instituto de Tecnologia Optoeletrônica da Academia Chinesa de Ciências, fez uma analogia em entrevista ao China Science News: "Isso é equivalente a nós usando uma faca muito grossa para esculpir uma linha. Linhas muito finas."

Isso é chamado de Quebrar o limite de difração da resolução. Portanto, também é conhecido como o primeiro equipamento de litografia ultravioleta de superresolução com a mais alta resolução do mundo.

Custo: Equipamento de última geração "preço do repolho "

Quanto menor o comprimento de onda, maior o custo.

Para obter maior resolução, caminhos técnicos como encurtar a onda de luz e aumentar a abertura numérica do sistema de imagem são tradicionalmente usados ​​para melhorar a máquina de litografia. No entanto, o problema é que não é apenas o a tecnologia é extremamente difícil, mas ocusto do equipamento também é extremamente alto.